Instruments and Experimental Techniques. Том 69. 2026. С. 496-509
Резонансный ВЧ- и СВЧ-разряд в аргоне для плазменной обработки пленок хитозана
Авторы
Андреев В.В. 1 , Артемьев А.В. , Барыков И.А. , Грудиев Е.И. , Двинин С.А. , Егоров А.Р. , Калашников А.В. , Критченков А.С. , Чупров Д.В. , Хубиев О.Р.
Журнал
Издательство
MEZHDUNARODNAYA KNIGA
Язык
Русский
Страницы
817–828
Статус
Опубликовано
Подразделение
Институт физических исследований и технологий
Номер
4
Том
90
Год
2026
Организации
- 1 Российский университет дружбы народов им. Патриса Лумумбы
Ключевые слова
ВЧ- и СВЧ-разряд; низкотемпературная аргоновая плазма; пленка хитозана; взаимодействие плазмы с веществом
Поделиться