The formation of Ti-O tetrahedra and band gap reduction in SiO2 via pulsed ion implantation

Авторы

Green R.J. ¹ , Hunt A. ¹ , Moewes A. ¹ , Zatsepin D.A.^2, ³ , Kurmaev E.Z.² , Gavrilov N.V. ⁴

Журнал

Номер выпуска

Язык

Английский

Страницы

103704

Статус

Опубликовано

Том

113

Год

2013

Организации

Дата создания

09.07.2024

Дата изменения

09.07.2024

Постоянная ссылка

https://repository.rudn.ru/ru/records/article/record/135867/

Статья

Kovalchukova O.V., Do Nguyen D., Strashnova S.B., Stash A.I., Bel'Skii V.K.

Russian Journal of Coordination Chemistry/Koordinatsionnaya Khimiya. Том 39. 2013. С. 234-238

Статья

Kovalchukova O.V., Strashnova S.B., Churakov A.V., Sergienko V.S., Abbas A.T.R.A., Kuznetsov D.N., Kobrakov K.I.

Russian Journal of Inorganic Chemistry. IAPC Nauka/Interperiodica. Том 58. 2013. С. 395-399

The formation of Ti-O tetrahedra and band gap reduction in SiO₂ via pulsed ion implantation