ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ ВЫРАЩИВАНИЯ GaN

В статье рассматриваются два основных метода выращивания эпитаксиальных слоев нитрида галлия. Разобраны этапы получения пленок из GaN, который является ключевым материалом для современной СВЧ электроники.

Авторы
Язык
Русский
Страницы
20-21
Статус
Опубликовано
Год
2023
Организации
  • 1 Российский университет дружбы народов
Ключевые слова
GaN; МОС-гидридная эпитаксия; молекулярно-лучевая эпитаксия
Цитировать
Поделиться

Другие записи

Горислова А.Ю., Коврижкина Е.Л., Каткова А.К.
НАУКА И ТЕХНОЛОГИИ: ПЕРСПЕКТИВЫ РАЗВИТИЯ И ПРИМЕНЕНИЯ. Международный центр научного партнерства «Новая Наука» (ИП Ивановская И.И.). 2023. С. 205-211