Prospects for band gap engineering by plasma ion implantation

Авторы
Risch M.1 , Bradley M.P. 2
Издательство
John Wiley & Sons
Номер выпуска
Suppl. 1
Язык
Английский
Страницы
S210-S213
Статус
Опубликовано
Том
6
Год
2009
Организации
  • 1 Freie Universität Berlin
  • 2 Department of Physics and Engineering Physics|University of Saskatchewan
Цитировать
Поделиться

Другие записи

Воробьев А.Е., Чекушина Е.В.
Ресурсно-экологические проблемы в XXI веке: инновационное недропользование, энергетика, экологическая безопасность и нанотехнологии. Российский университет дружбы народов (РУДН). 2009. С. 144-150