ИССЛЕДОВАНИЕ ЭФФЕКТИВНОСТИ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ АРХИТЕКТУР U-NET И CYCLEGAN В РАСЧЕТЕ ФОТОШАБЛОНА ДЛЯ ТЕХНОЛОГИИ 90-НМ МЕТОДОМ ОБРАТНОЙ ЛИТОГРАФИИ СтатьяКарандашев Я.М., Теплов Г.С.Математическое моделирование в материаловедении электронных компонентов. МММЭК-2023. 2023. С. 70-72