Анализ методов синтеза аморфных функциональных слоев на основе ZnO для устройств прозрачной электроники

Проанализированы процессы магнетронного синтеза нанокристаллических и аморфных слоев на основе оксида цинка. Изучено влияние легирующих компонентов и уровня легирования на степень аморфизации слоев. Рассмотрено влияние водорода в составе атмосферы на структурное совершенство синтезируемых слоев. Показана зависимость структуры слоев ZnO-SnO₂ от соотношения компонентов в распыляемых мишенях. Обсуждены механизмы формирования аморфных слоев на основе ZnO при магнетронных методах синтеза.

ANALYSIS OF DEPOSITION METHODS FOR ZnO-BASED AMORPHOUS FUNCTIONAL LAYERS FOR TRANSPARENT ELECTRONICS DEVICES

The processes of growth of nanocrystalline and amorphous ZnO-based thin films by magnetron sputtering method are analyzed. The effect of doping components and the level of doping on the degree of film amorphization has been studied. The effect of hydrogen in the composition of the atmosphere on the structural perfection of the deposited ZnO-based thin films is considered. The dependence of the structure of ZnO-SnO₂ thin films on the component ratio in sputtered targets is shown. The mechanisms of the formation of ZnO-based amorphous films by magnetron sputtering methods are discussed.