Резонансный ВЧ- и СВЧ-разряд в аргоне для плазменной обработки пленок хитозана

Authors
Андреев В.В. 1 , Артемьев А.В. , Барыков И.А. , Грудиев Е.И. , Двинин С.А. , Егоров А.Р. , Калашников А.В. , Критченков А.С. , Чупров Д.В. , Хубиев О.Р.
Journal
ИЗВЕСТИЯ РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК. СЕРИЯ ФИЗИЧЕСКАЯ (IZVESTIYA AKADEMII NAUK SERIYA FIZICHESKAYA)
Publisher
MEZHDUNARODNAYA KNIGA
Language
Russian
Pages
817–828
State
Published
Department
Институт физических исследований и технологий
DOI
10.7868/S3034646026040083
Number
4
Volume
90
Year
2026
Organizations
  • 1 Peoples Friendship University of Russia named after Patrice Lumumba
Keywords
ВЧ- и СВЧ-разряд; низкотемпературная аргоновая плазма; пленка хитозана; взаимодействие плазмы с веществом
Cite
ГОСТ MLA RIS BibTex
Share

Other records